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我国等离子体工艺研究进展

  • 摘要: 扼要综述了我国等离子体材料工艺研究的新近进展.内容包括:热等离子体源,等离子冶金、化工、超细粉合成、喷涂;低气压非平衡等离子体源,镀膜,表面改性,等离子浸没离子注入;电晕放电,介质阻挡放电,滑动弧等及其应用.当前,各类薄膜制备和表面改性的研究工作最为活跃

     

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