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胡一贯. 合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究[J]. 物理, 1996, 25(2).
引用本文: 胡一贯. 合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究[J]. 物理, 1996, 25(2).
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合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究

    摘要
  • 摘要: 同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米级图形的超微细加工，特别是ＬＩＧＡ技术的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域．使它不仅适合于超大规模集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作．文章简要介绍了ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展．

     

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