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硅的可见光发射──通向全硅光电子集成之途

王迅, 侯晓远, 郝平海

王迅, 侯晓远, 郝平海. 硅的可见光发射──通向全硅光电子集成之途[J]. 物理, 1992, 21(6).
引用本文: 王迅, 侯晓远, 郝平海. 硅的可见光发射──通向全硅光电子集成之途[J]. 物理, 1992, 21(6).

硅的可见光发射──通向全硅光电子集成之途

  • 摘要: 由于Si是一种禁带宽度只有1.1eV的间接带隙材料,其发光效率极低,因此长期以来Si被认为是一种不可能用于制作可见光区光电器件的材料.但近一两年才出现的多孔硅光致发光现象,对人们的这种传统概念产生了巨大的冲击,一股多孔硅的研究热潮也正在兴起.本文将结合作者在多孔硅方面的工作,对多孔硅光致发光现象的研究背景、现状和潜在的应用作了较详细的介绍.
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出版历程
  • 发布日期:  1992-06-19

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