中国物理学会期刊
Chinese Physics Letters Chinese Physics B 物理学报 物理 中国物理学会期刊网
高级检索
陈英方, 吴知非. 等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术[J]. 物理, 1991, 20(12).
引用本文: 陈英方, 吴知非. 等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术[J]. 物理, 1991, 20(12).
shu

等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术

    摘要
  • 摘要: 本文介绍了近几年发展起来的一种新型离子注入技术——等离子体源离子注入（ＰｌａｓｍａＳｏｕｒｃｅｌｏｎ　ｌｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ，简称ＰＳＩＩ）——的原理、装置和应用．除可应用于半导体外，这一技术应可满足金属或非金属材料表面改性的需要．实践证明它是一种极有开拓前景的离子注入技术．

     

    • HTML全文
    • 参考文献(0)
    • 相关文章
    • 施引文献
  • 资源附件(0)

/

返回文章
返回