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微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术

任兆杏, 盛艳亚, 史义才

任兆杏, 盛艳亚, 史义才. 微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术[J]. 物理, 1990, 19(8).
引用本文: 任兆杏, 盛艳亚, 史义才. 微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术[J]. 物理, 1990, 19(8).

微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术

  • 摘要: 微波电子回旋共振(ECR)能够在低气压下产生高密度、高电离度的等离子休.这种等离子体是离子镀最合适的等离子体源,可广泛地应用于等离子体沉积薄膜和表面处理的新工艺,生产高质量的各种金属薄膜、氮化物膜,碳化物膜、氧化物膜、硅化物膜及其他化合物膜.本文着重介绍微波ECK等离子体辅助物理汽相沉积(ECRPPVD)技术.
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出版历程
  • 发布日期:  1990-08-19

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