摘要: 离子注入技术在半导体工业中已成为重要的加工技术，离子注入金属材料表面改性也开始走向实用阶段．对这项技术人们又提出了两种新的方法，第一种叫ＩＶＤ方法（ｉｏｎａｎｄｖａｐｏｕｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ），第二种叫离子束缝合法（ｉｏｎｂｅａｍｂｏｎｄｉｎｇ）．这就开拓了离子注入技术的一些新的应用领域，如磁泡材料、光学材料、超导材料和高分子材料等．下面作一简单介绍．一、两种新的离子注入方法１．ＩＶＤ方法?...