集成电路中的物理问题讲座第四讲 半导体中深能级杂质缺陷与深能级瞬态谱
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摘要: 大家知道，不含杂质的纯半导体几乎没有什么直接的用途．为了制造半导体器件，人们总是先将半导体材料尽可能地提纯，然后用扩散、离子注入等方法将一定数量的特定杂质掺入半导体的一定部位，以控制半导体的导电类型和电阻率，再经金属蒸发等工艺，最终制成半导体器件．因此，研究杂质的性质和作用是很重要的．在半导体中，有两类性质和作用都绝然不同的杂质：一类杂质是在禁带中引入的能级与导带底或价带顶的能量差很小，远远?...
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