用离子技术合成类金刚石薄膜
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摘要: 用离子技术合成的类金刚石碳膜（ｉ－Ｃ膜）具有一系列优良的性能：高的绝缘性，电阻率为１０～７－１０～（１４）Ｑ·ｃｍ，电导率有负的温度系数（１０～（－２）－１０～（－４）℃～（－１））；高的介电强度，击穿电压约１０～６Ｖ·ｃｍ～（－１），介电常数为８－１２；较高的硬度，显微硬度高于３０００ｋｇ／ｍｍ～２；较好的光学透射性，有大的光带隙（１—２．６ｅＶ），可以掺杂成ｎ型或Ｐ型材料；对酸和有机溶液?...
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