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调制掺杂高迁移率晶体管

虞丽生

虞丽生. 调制掺杂高迁移率晶体管[J]. 物理, 1985, 14(6).
引用本文: 虞丽生. 调制掺杂高迁移率晶体管[J]. 物理, 1985, 14(6).

调制掺杂高迁移率晶体管

  • 摘要: 为了提高场效应晶体管的响应速度,在设计中希望采用迁移率高的材料.材料迁移率的大小决定于载流子的散射.一般在高温下,载流子主要被晶格振动所散射,即声子散射;而在低温下电离杂质的散射起主导作用.对于高掺杂的样品,即使降低温度也不能使迁移率提高.掺杂浓度为1017-1018cm-3的n型GaAs中的电子迁移率大约是3000—4000cm2/V·s左右.而P型GaAs中的空穴迁移率将更低.掺杂浓度降?...
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出版历程
  • 发布日期:  1985-06-19

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