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顾柏春. X射线光刻与超大规模集成电路[J]. 物理, 1984, 13(1).
引用本文: 顾柏春. X射线光刻与超大规模集成电路[J]. 物理, 1984, 13(1).

X射线光刻与超大规模集成电路

  • 摘要: 当前,集成电路正在向超大规模集成电路发展,预期在1985年到1990年间超大规模集成电路设计中将采用线宽为1至0.5微米的电路几何图形加工工艺(即亚微米工艺).这将使电路成本大大下降,例如采用2微米线条,存储器每位成本为3200微美分,采用1.5微米线条,成本为1925微美分,采用0.5微米线条,成本则下降至84微美分.由于这样明显的经济效益,超大规模集成电路所需的各种技术正在迅速发展,其中?...

     

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