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陈国明, 柳襄怀, 争世昌. 溅射及其应用[J]. 物理, 1981, 10(4).
引用本文: 陈国明, 柳襄怀, 争世昌. 溅射及其应用[J]. 物理, 1981, 10(4).
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溅射及其应用

    摘要
  • 摘要: 当入射离子能量超过靶材料的溅射阈能时，就会发生溅射现象．离子刻蚀和薄膜生长乃是溅射实际应用中的两个重要方面．一、溅射的物理基础１．溅射率随寓子入射能量的变化一个离子轰击靶表面时，被溅射出来的靶原子数目称为溅射率Ｓ（原子数／离子）．溅射率Ｓ随入射离子能量Ｅ的变化而变化．图１是在氩离子轰击多晶铜靶时，溅射率Ｓ随氮离子能量Ｅ的变化曲线［１］．在图１中，区域Ｉ表明：由于氩离子能量Ｅ＜１０ｅＶ（低于铜?...

     

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