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莫党, 卢因诚. 椭偏光仪在半导体工艺中的应用[J]. 物理, 1977, 6(3).
引用本文: 莫党, 卢因诚. 椭偏光仪在半导体工艺中的应用[J]. 物理, 1977, 6(3).

椭偏光仪在半导体工艺中的应用

  • 摘要: 椭偏光仪是一种根据物理光学原理测量薄膜厚度和折射率的仪器.它的特点是能测很薄的膜(可达10埃),测量精度高(误差小于±10埃),测量过程是非破坏性的,并能同时测定膜的厚度和折射率.据报导,椭偏光仪可广泛用于电子、光学、金属、化学等工业以及物理学、化学、生物学、医药学的研究.例如,物体光学常数的测定,各种薄膜的测定和控制,表面层和表面过程(氧化、腐蚀、吸附、润滑、催化)的研究等等.1975年,?...

     

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