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北京师范大学物理系离子束组. 半导体离子注入法[J]. 物理, 1973, 2(4).
引用本文: 北京师范大学物理系离子束组. 半导体离子注入法[J]. 物理, 1973, 2(4).

半导体离子注入法

  • 摘要: 随着电子工业的飞速发展,对半导体器件提出了高频、大功率、高密度、低噪声、低功耗的要求,半导体工艺中的热扩散法,已很难胜任这些新的任务.因此人们都在寻找更有效的掺杂工艺.半导体离子注入法,就是六十年代发展起来的一种半导体掺杂的新方法.近来,人们把离子束和电子束结合起来称为“两束”技术,在很多国家已广泛地应用于半导体器件的研制和生产.它对于发展电子工业和宇宙探索技术具有十分重要的意义.所谓半导体?...

     

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