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吴承康. 我国等离子体工艺研究进展[J]. 物理, 1999, 28(7).
引用本文: 吴承康. 我国等离子体工艺研究进展[J]. 物理, 1999, 28(7).
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我国等离子体工艺研究进展

    摘要
  • 摘要: 扼要综述了我国等离子体材料工艺研究的新近进展．内容包括：热等离子体源，等离子冶金、化工、超细粉合成、喷涂；低气压非平衡等离子体源，镀膜，表面改性，等离子浸没离子注入；电晕放电，介质阻挡放电，滑动弧等及其应用．当前，各类薄膜制备和表面改性的研究工作最为活跃

     

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