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周国良, 王迅. 硅分子束外延及其应用的新进展[J]. 物理, 1990, 19(9).
引用本文: 周国良, 王迅. 硅分子束外延及其应用的新进展[J]. 物理, 1990, 19(9).
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硅分子束外延及其应用的新进展

    摘要
  • 摘要: 以Si为基底的分子束外延是Si能带工程的基础．本文简要地介绍了Si分子束外延的技术以及它在新型器件结构应用方面的一些基本问题和发展现状．

     

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