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张瑞智, 罗晋生. 薄SiO_2膜厚度的椭偏测量方法[J]. 物理, 1989, 18(5).
引用本文: 张瑞智, 罗晋生. 薄SiO_2膜厚度的椭偏测量方法[J]. 物理, 1989, 18(5).
shu

薄SiO_2膜厚度的椭偏测量方法

    摘要
  • 摘要: 应用常规椭偏方法测量膜厚小于３００Ａ的薄ＳｉＯ２膜厚度时，由于膜的折射率对已知参数比较敏感，因而测量误差较大．本文给出一种薄ＳｉＯ２膜厚度的椭偏测量方法，引入等效入射角的概念，用曲线拟合求交点的办法精确确定了膜的折射率和厚度．

     

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