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张世兴. 离子镀技术[J]. 物理, 1986, 15(7).
引用本文: 张世兴. 离子镀技术[J]. 物理, 1986, 15(7).
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离子镀技术

    摘要
  • 摘要: 离子镀是物理气相沉积（ｐｈｙｓｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅ－Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）法的一种，是美国物理学家Ｍａｔｔｏｘ于六十年代初，将真空蒸发和真空溅射结合起来而研制成功的一种新的镀膜技术１］．由于它的独特优点受到人们广泛的重视，许多科学工作者对这一技术进行了深入研究．七十年代初，Ｂｕｎｓｈａｈ２］在离子镀装置中加上探测极，研制成功一种活性反应法（ＡＲＥ法）；Ｍｏｒｅｙ３］等人研制成功空心阴极等离子....

     

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