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郗秀荣, 高新华, 帅仁杰, 张信钰. X射线荧光分析用全聚焦分光晶体的磨制[J]. 物理, 1973, 2(3).
引用本文: 郗秀荣, 高新华, 帅仁杰, 张信钰. X射线荧光分析用全聚焦分光晶体的磨制[J]. 物理, 1973, 2(3).

X射线荧光分析用全聚焦分光晶体的磨制

  • 摘要: 目前X射线光谱仪中常用的晶体有:平面反射晶体,柱面弯曲反射晶体,柱面弯曲透射晶体,边缘晶体和双曲晶体,其中以平面反射和柱面弯曲反射晶体的应用最为普遍.由于平面反射晶体分光计是非聚焦的,衍射的X射线不能为探测器全部接收,因此,X射线强度损失较大.柱面弯曲反射晶体,就其聚焦方式而言,有半聚焦和全聚焦之分.所谓半聚焦(Johan式)即将平面晶体弯成半径为2R的往面(R为聚焦圆半径),此时,晶体点阵?...

     

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