摘要: 上篇所描绘的磁畴成像方法，虽然有些方法所搭载的工具很强大，比如洛伦兹成像搭载的TEM、桑巴成像搭载的SEM等，都与电子显微镜有关，但这些方法的基本机制都可以在经典电磁学框架下描述，也因此这些成像的衬度只是决定于成像位点附近的磁矩或杂散场(矢量，有大小和方向)。分辨率问题可以各显神通，但这些成像技术一个根本性的缺憾是：对材料组成不敏感。